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글로벌 반도체 전공정 웨이퍼 검사·계측(Process Control/Metrology & Inspection), 리소그래피, 식각·증착 및 첨단 패키징 수율 관리 장비 시장에서 직접 경쟁하는 선도 반도체 장비 그룹입니다.
시나리오
정답을 예측하는 점수가 아니라, 어떤 관점으로 먼저 조사할지 바꾸는 실험 도구입니다.
가중치 조정
동종 지위
리더·도전자·후발
평가 괴리
저평가·적정·고평가
변화 신호
확인·초기·없음·악화
근거 충실
Coverage score 1–5
Scenario ranking
현재 관점의 조사 우선순위
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10개 공통·공유 렌즈
KLAC
KLA Corporation Common Stock
AMAT
Applied Materials, Inc. Common Stock
ASML
ASML Holding N.V. New York Registry Shares
LRCX
Lam Research Corporation Common Stock
Peer 포지셔닝
generic_peer
4/4종 수집
어플라이드 머티어리얼즈, 램리서치 등 글로벌 대형 장비사들과 비교해 매출 규모는 작으나, 독점적 지위를 바탕으로 61.5%라는 압도적인 총마진율을 유지하며 단위당 수익성에서 피어들을 크게 앞섭니다.
- AMAT·램리서치·ASML 대비 독보적 61%+ 총마진 및 41% 영업이익률 수익성 1위
- 61.5 %
노광을 독점하는 ASML을 제외하고 증착, 식각, 연마, 이온주입 등 전공정 전 영역에서 가장 넓은 포트폴리오를 보유하고 있습니다. 램리서치나 KLA 대비 월등한 매출 규모와 팹 점유율을 자랑합니다.
- 글로벌 반도체 전공정(WFE) 장비 피어 종합 경쟁력
- 1 없음Peer 1위
어플라이드 머티어리얼즈(AMAT), 램리서치(LRCX) 등이 다자 경쟁을 벌이는 것과 달리, 7nm 이하 미세화의 필수 병목인 EUV 노광을 100% 점유하고 있습니다. 글로벌 반도체 공급망에서 가장 대체 불가능한 지배적 위상을 차지합니다.
- AMAT·램리서치·KLA 대비 반도체 미세화의 유일한 병목 독점 해자 보유
- 1 없음
종합 장비사 AMAT나 TEL 대비 식각과 HBM 도금에서 독보적 기술 격차를 유지하고 있습니다. 메모리 설비투자 회복 국면에서 글로벌 장비사 중 가장 가파른 실적 반등 탄력을 보입니다.
- 반도체 장비 피어 대비 식각 기술 우위 및 메모리 사이클 탄력도
- 1 없음Peer 1위
촉매
generic_catalyst
4/4종 수집
10대 1 액면분할로 유동성을 높이고 2nm GAA 양산 전환의 최대 수혜를 받으며 차분기 40억 달러 매출 가이던스를 제시하는 등 12개월 내 가장 강력한 실적 촉매를 확보했습니다.
- TSMC 2nm 양산 가동 및 2026년 6월 10대 1 주식분할 완료에 따른 유동성 확대
- 10 배
2nm GAA 램프업과 후면 전력 공급망(BSPDN) 장비 출하, 148억 달러 자사주 매입 프로그램이 대기 중입니다. 차세대 트랜지스터 아키텍처 전환의 최대 수혜 촉매를 확보했습니다.
- 2nm 차세대 로직 공정 전환 및 첨단 패키징 촉매
- 1 없음Peer 1위
High NA EUV 양산 본격화와 2025~2026년 반도체 업턴 진입, 2030년 연매출 600억~700억 유로 장기 가이던스가 대기 중입니다. 글로벌 칩메이커들의 설비투자 붐과 맞물려 강력한 장기 성장 모멘텀을 보유합니다.
- High NA EUV 2nm 본격 양산 및 2030년 연매출 600억 유로 목표 달성 촉매
- 1 없음
3D 낸드 고단화 투자 재개와 HBM4 양산 납품이 대기 중이며, 10:1 액면분할과 100억 달러 자사주 매입이 유동성을 높이고 있습니다. 업황과 주주환원 양쪽에서 강력한 촉매를 갖추었습니다.
- 낸드 고단화 투자 재개 및 HBM4 장비 납품 촉매
- 10 없음Peer 1위
자본 배분
generic_capital_allocation
3/4종 수집
잉여현금흐름의 85% 이상을 자사주 매입과 배당으로 철저히 환원하며, 희석적인 대형 M&A를 배제하고 주당 가치를 극대화하는 모범적 자본 배분을 보여주고 있습니다.
- 15년 연속 배당 인상 및 연간 33.5억 달러(FCF의 89%) 주주환원 집행
- 3.35 십억달러
20년 연속 배당을 증액(10년 CAGR 15%)하고 148억 달러의 자사주 매입 프로그램을 통해 잉여현금흐름의 85~90%를 주주에게 환원하는 최상급 자본 정책을 실행하고 있습니다.
- 20년 배당 성장률, 자사주 매입 승인 규모 및 FCF 환원율
- 20 없음Peer 1위
주당 6.10유로 이상의 배당금을 안정적으로 지급하면서 120억 유로 자사주 매입 프로그램을 승인하여 주주환원을 실행하고 있습니다. 무차입 대차대조표를 바탕으로 R&D 투자와 주주환원을 조화롭게 실행합니다.
- 연간 배당금 인상(주당 6.10유로 이상) 및 120억 유로 자사주 매입 프로그램 가동
- 12,000 백만달러
이 렌즈는 아직 수집되지 않았습니다.
경쟁 위협
generic_competitive_threat
4/4종 수집
선단 공정에서의 해자는 견고하나, AMAT의 전자빔 계측 추격과 중국 로컬 업체들의 성숙 공정 장비 대체 시도로 인해 중장기적인 경쟁 압박이 일부 가중되고 있습니다.
- AMAT의 전자빔 계측 장비 공세 및 중국 로컬 검사 장비사의 레거시 시장 침투
- 2 개
기술 지배력은 확고하나, 미국 법무부(DOJ)의 대중국 우회 수출 혐의 조사로 2.5억 달러 제재금을 납부한 이력과 중국 매출 비중(과거 35~40%) 축소는 시장의 안일한 전망 대비 실질적인 다운사이드 리스크입니다.
- 대중국 수출 통제 법적 제재 리스크 및 중국 매출 의존도
- 252 백만달러Peer 2위
EUV 시장 지배력은 매우 확고하나, 미·네덜란드 정부의 대중국 DUV 수출 통제 강화로 인한 중국 매출 비중 급감(27%->15%)과 인텔 등 일부 파운드리 고객사의 CapEx 지연은 시장의 과도한 낙관을 경계해야 할 핵심 리스크입니다.
- 대중국 DUV 수출 규제 강화(중국 매출 27%->15% 축소) 및 고객사 팹 지연
- 27 %
식각 기술력은 확고하나, 과거 매출의 35% 이상을 차지했던 중국 장비 수출 규제 강화와 낸드 시황의 사이클 변동성은 시장의 낙관적 전망 대비 실질적인 다운사이드 리스크 요인입니다.
- 지정학적 대중국 수출 규제 및 메모리 시황 민감도
- 30 %Peer 2위
경영 변화
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4/4종 수집
20년간 흔들림 없이 60% 총마진과 본업 집중 전략을 고수하여 반도체 장비 업계에서 가장 안정적이고 뛰어난 주주가치 창출 경영진으로 자리매김했습니다.
- 릭 월리스(Rick Wallace) CEO의 20년 장기 리더십과 60% 총마진 엄격 관리
- 20 년
게리 디커슨 CEO는 10년간 회사를 이끌며 매출을 280억 달러로 성장시키고 WFE 1위 위상을 지켜냈습니다. 반도체 사이클 전반에 걸쳐 일관된 R&D 투자와 탁월한 경영 통제력을 발휘했습니다.
- 최고경영진의 장기 비전 및 글로벌 장비 시장 지배력
- 10 없음Peer 1위
크리스토프 푸케 CEO는 취임 후 차세대 High NA EUV의 조기 고객사 인도를 성공적으로 지휘했습니다. 기술 엔지니어링 전문성과 글로벌 통상 위기 관리 능력을 겸비한 검증된 리더십입니다.
- 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) CEO의 High NA 상용화 및 경영 리더십
- 1 없음
팀 아처 CEO는 생산 거점을 아시아로 성공적으로 이전하여 원가 절감과 고객 밀착을 동시에 달성했습니다. 기술 로드맵 실행과 마진 방어에서 뛰어난 경영 능력을 입증했습니다.
- 최고경영진의 글로벌 공급망 재편 및 운영 효율성
- 1 없음Peer 1위
ESG·평판
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4/4종 수집
중국 팹들의 성숙 노드 장비 발주 수혜를 크게 누렸으나, 매출의 25~35%가 중국에 노출되어 있어 미국 정부의 대중국 추가 제재 발표 시 단기 실적 변동성이 가장 높은 편입니다.
- 중국 매출 비중 25~35% 노출 및 미국 상무부(BIS) 첨단 장비 수출 규제 리스크
- 30 %
실리콘밸리 40억 달러 규모 EPIC R&D 센터에 대한 칩스법 보조금 지원 취소와 유해 화학물질(PFAS) 대체 규제 과제가 상존합니다. 정부 정책 변화와 환경 규제에 대한 지속적인 관리가 요구됩니다.
- 정부 R&D 보조금 지원 마찰 및 유해 화학물질 환경 규제
- 1 없음Peer 2위
네덜란드 본사 인프라 확충 프로젝트(Project Beethoven)의 행정 지연과 EUV 장비의 대규모 전력 소비 과제가 상존합니다. 지속 가능한 친환경 장비 개발과 본사 지역 인프라 거버넌스 개선이 요구됩니다.
- 네덜란드 본사 인프라 '프로젝트 베토벤' 난항 및 EUV 장비 전력 소비 과제
- 2,500 백만달러
반도체 건식 식각 챔버의 불소계 온실가스 배출 감축 요구와 미중 무역 제재에 따른 공급망 컴플라이언스 관리가 필요합니다. 친환경 기술 개발이 요구되는 분야입니다.
- 반도체 화학 공정 가스 환경 규제 및 글로벌 공급망 안보
- 1 없음Peer 2위
AI 노출
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4/4종 수집
수천 달러에 달하는 고가 AI 칩의 패키징 불량을 막기 위한 수율 관리 장비로서 AI 인프라 확장의 직접적이고 필수적인 수혜를 누리고 있습니다. 2027 회계연도 1분기 40억 달러 분기 가이던스가 이를 증명합니다.
- AI 가속기 멀티다이(CoWoS) 패키징의 결함 무관용(Zero-Defect) 원칙 수혜
- 4 십억달러
AI 칩 제조에 필수적인 2nm/3nm 선단 로직 장비와 HBM 하이브리드 본딩 패키징 장비를 공급합니다. AI 반도체 제조 전 공정에서 가장 광범위한 수혜를 누리는 종합 장비사입니다.
- AI 반도체 선단 로직 및 차세대 패키징 장비 노출도
- 1 없음Peer 1위
첨단 AI 가속기와 고성능 HBM 메모리의 미세화로 웨이퍼당 EUV 적용 레이어 수가 2배 이상 급증하고 있습니다. 반도체 전공정 장비사 중 AI 미세화 트렌드의 가장 직접적이고 구조적인 수혜를 누리고 있습니다.
- AI 가속기 및 HBM4 미세화에 따른 웨이퍼당 EUV 레이어 수 급증 수혜
- 1 없음
HBM 적층에 필수적인 TSV 도금 시장 1위를 장악하고 AI 서버용 대용량 eSSD 낸드 증설 수혜를 누립니다. 전공정 장비사 중 AI 메모리 병목 현상의 가장 확실한 수혜주입니다.
- AI HBM 고단 적층 및 대용량 eSSD 낸드 노출도
- 1 없음Peer 1위
R&D·CapEx
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4/4종 수집
자체 제조 시설 대신 모듈 조립 중심의 팹라이트 구조를 채택하여 CapEx를 매출의 3%로 통제하고 37.7억 달러의 막대한 FCF를 창출하고 있습니다. 반도체 장비 업계 최고의 자본 효율성 모델입니다.
- 매출의 15% R&D 집중 투자 및 팹라이트 조립 모델을 통한 연 37.7억 달러 FCF 창출
- 3.77 십억달러
매년 31억 달러의 막대한 R&D를 투입하면서도 47.5%의 총마진율과 28%의 잉여현금흐름 마진을 달성하고 있습니다. 업계 최대의 R&D 규모로 기술 격차를 지속 확대하고 있습니다.
- R&D 투자 절대 규모, 매출총이익률 및 FCF 창출력
- 3,100 백만달러Peer 1위
연간 43억 유로의 대규모 R&D를 투입하면서도 팹라이트 조립 모델을 통해 총마진율 52.0%와 영업이익률 32.5%를 달성했습니다. 확고한 가격 결정력을 바탕으로 업계 최고 수준의 마진율을 실현하고 있습니다.
- 연간 R&D 43억 유로(매출 15.5%), 매출총이익률 52.0% 및 영업이익률 32.5%
- 4,300 백만달러
매출의 12%를 R&D에 재투자하면서도 아시아 생산 거점 최적화를 통해 48% 총마진율과 30%의 FCF 마진을 달성하고 있습니다. 반도체 장비 업계 최상급의 운영 레버리지를 증명합니다.
- R&D 재투자 집약도, 매출총이익률 및 잉여현금흐름 창출력
- 1,800 백만달러Peer 1위
경쟁 우위
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4/4종 수집
40년간 축적된 광학 기술과 전 세계 선단 팹의 수율 데이터베이스가 KLA 장비에 연동되어 있어 타사 장비로 교체 시 수천억 원의 수율 손실 위험이 발생하므로 완벽한 진입 장벽을 자랑합니다.
- 독보적 광학·전자빔 물리학 기술과 글로벌 파운드리 수율 데이터베이스 락인
- 40 년
진공 상태에서 증착과 식각, 계측을 하나로 묶는 IMS 기술과 전 세계 43,000대 챔버 설치 기반을 보유하고 있습니다. 고객 팹의 수율을 책임지는 단일 벤더로서 타사가 넘볼 수 없는 해자를 가집니다.
- 복합 공정 통합 챔버 아키텍처 및 글로벌 팹 설치 인프라
- 43,000 없음Peer 1위
독일 칼 자이스와의 배타적 반사경 공급망과 극자외선 플라즈마 광원 원천 특허, 30만 개 부품의 초정밀 제어 기술을 확보했습니다. 20년 이상의 연구개발과 수십조 원의 자본이 집약된 대체 불가능한 엔지니어링 해자입니다.
- 독일 칼 자이스(Zeiss) 초정밀 광학계 독점 공급망 및 30만 개 부품 결합 해자
- 1 없음
100:1 이상의 깊은 구멍을 뚫는 초고종횡비 플라즈마 원천 기술과 전 세계 9만 대 챔버 설치 기반을 확보하고 있습니다. 수율에 민감한 반도체 팹 특성상 타사 장비로의 교체가 극히 어려운 독점적 해자입니다.
- 식각 종횡비 정밀도 원천 기술 및 글로벌 장비 설치 기반
- 90,000 없음Peer 1위
고객 집중
tech_customer_concentration
4/4종 수집
글로벌 상위 3대 선단 팹 운영사(TSMC, 삼성, 인텔)에 매출의 45%가 집중되어 있어, 이들 업체의 설비투자 조정이나 공정 전환 지연 시 실적 변동성이 크게 증폭되는 취약점을 안고 있습니다.
- TSMC·삼성전자·인텔 등 상위 3~4대 파운드리/메모리 고객사 매출 비중 45% 집중
- 45 %
글로벌 최상위 4대 반도체 제조사가 매출의 62%를 차지하며 핵심 파트너십을 형성하고 있습니다. 전 세계 주요 팹 신설 시 필수적으로 가장 많은 장비가 반입되는 구조입니다.
- 글로벌 톱 티어 파운드리/IDM 고객 집중도
- 62 %Peer 1위
TSMC, 인텔, 삼성전자 등 상위 5개 고객이 장비 매출의 80% 이상을 차지하고 있습니다. 주요 칩메이커 간의 선단 공정 경쟁으로 장비 수주가 지속되는 동시에 고객사의 CapEx 속도 조절에 따른 분기 수주 변동성이 존재합니다.
- TSMC, 인텔, 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론 등 상위 5대 고객 비중 80%+
- 80 %
글로벌 최상위 4대 반도체 제조사가 매출의 65%를 차지하며 강력한 파트너십을 형성하고 있습니다. 고객사들의 HBM 및 첨단 로직 증설 시 가장 직접적인 수혜를 입는 구조입니다.
- 글로벌 톱 티어 반도체 제조사 고객 집중도
- 65 %Peer 1위
실험 점수 계산 방식
각 렌즈의 동종 지위, 평가 괴리, 변화 신호, Coverage score를 0–100으로 변환한 뒤 선택한 가중치로 평균합니다. 수집되지 않은 렌즈 비율만큼 최대 25%를 감산합니다. 절대 가치나 기대수익률이 아니라 현재 관점에서 추가 조사가 필요한 순서를 테스트하기 위한 휴리스틱입니다.